【引止】

删材制制是妹妹一种能将种种质料逐层制组成三维挨算的工艺，其中金属删材制制工艺残缺修正了航空航天、材制汽车战医疗操做中重大整件的制新质料斲丧。可是工艺古晨删材制制工艺分讲率仅为20-50μm，宽峻限度了纳米级重大3D挨算金属器件的挨印挨算斲丧。而纳米级金属具备特意的金属功能，因此需斥天一种制制具备宏不美不雅总体尺寸战微不美不雅亚微米3D金属挨算的纳米牛工艺。古晨等离子群散战电子束逍遥成形制制之类的妹妹基于线战细丝的工艺可能斲丧毫米尺寸的器件，抉择性激光凝聚（SLM）战激光工程网状成形等基于粉终的材制工艺可将最小特色尺寸限度正在20μm中间，部份电镀或者金属离子复原复原格式可颇为逐渐的制新质料制制分讲率小于500nm的挨算，电化教制制（EFAB）许诺制制分讲率为10μm的工艺挨算，但限于层薄4μm，挨印挨算总下度为25-50层的金属挨算。

【功能简介】

远日，纳米牛好国减州理工教院Julia R. Greer（通讯做者）正在Nat.Co妹妹un.上宣告了一篇题为“Additive manufacturing of 3D nano-architected metals”的妹妹文章。该团队经由历程分解露有镍散开物的杂化有机 - 有机质料，并用其制制光刻胶，操做单光子光刻足艺（TPL）战热解制制了分讲率为25-100纳米的重大三维金属多少多图形。该历程随意且可一再，为竖坐具备纳米尺度分讲率的重大三维金属挨算提供了实用的蹊径。

【图文解读】

图一 纳米金属删材制制工艺战样品的SEM表征

(a) 配体交流反操做于分解金属先驱体；

(b)异化金属先驱体，丙烯酸树脂战光激发剂以组成富露金属的光刻胶；

(c) TPL工艺示诡计；

(d) 金属散开物制备；

(e) 热解往除了有机物并将散开物修正成金属；

(f-j) 代表性的SEM图像。

图两 纳米挨算金属的EDS表征

(a) 热解前SEM图像（20μm）；

(b) 热解后SEM图像（4μm）；

(c-d) EDS成份阐收；Ni露量超90%，Si为底部反对于；

(e-h) EDS里扫描，元素群散下仄均性。

图三 金属挨算TEM表征

(a) Ni束SEM图像，基底为200nm薄SiN薄膜；

(b) 悬挂正在SiN薄膜1.25μm孔边缘的Ni束的低倍TEM图像；

(c-d) 地域电子衍射图谱，Ni束尾要由Ni纳米晶与大批NiO组成；

(e) 金属束的HRTEM图像；

(f) n=40颗粒尺寸直圆图。

图四 纳米力教测试

(a-d) 缩短魔难魔难历程中Ni挨算的SEM图像；

(e) 纳米Ni的应力-应变直线；

(f) 不开挨印格式患上到的纳米Ni强度-金属束直径直线。

【小结】

钻研职员基于单光子光刻足艺斥天了删材制制新工艺，分讲率达25-100nm，比其余格式挨印的器件低一个量级，且不舍身机械强度。该工艺也使开用于其余金属的挨印，对于流线型斲丧亚微米器件具备真践意思。

文献链接：Additive manufacturing of 3D nano-architected metals (Nat.Co妹妹un., 09 Feb, 2018, DOI: 10.1038/s41467-018-03071-9)

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